Kiletehnoloogia labor tegeleb õhukeste ja üliõhukeste materjalikihtide (tahkisekilede) valmistamiseks ja uurimiseks sobivate meetodite väljatöötamise ja täiustamisega, nende meetodite rakendamisega ning üliõpilaste koolitamisega selles valdkonnas. Uuritavate materjalide kasutusalad ulatuvad korrosioonivastastest pinnakatetest mikro- ja nanoelektroonikani.
Labori töötajate käsutuses on aparatuur tahkiskilede valmistamiseks elektronkiirega aurustamise, magnetrontolmustamise ja aatomkihtsadestamise meetodil, samuti grafeeni valmistamiseks keemilise aurufaassadestamisega. Kasutada on vahendid tahkisekilede moodustumise jälgimiseks reaalajas. Materjalide omadusi on laboris võimalik uurida röntgendifraktsiooni, röntgenpeegelduse, röntgenfluorestsentsi, elektronmikroskoopia, elektronsond-mikroanalüüsi, spektroskoopilise ellipsomeetria ja teravikmikroskoopia meetoditel. Samuti on kasutada elektriliste omaduste ja gaasitundlikkuse mõõtmise aparatuur.
Kiletehnoloogia laboris on
Kaupo Kukli laborijuhataja materjaliteaduse professor, PhD (rakendusfüüsika) E-post: kaupo.kukli@ut.ee Telefon: 737 4673 Kabinet: W. Ostwaldi 1-C206 |
Harry Alles materjaliteaduse kaasprofessor, PhD E-post: harry.alles@ut.ee Telefon: 737 4658 Kabinet: W. Ostwaldi 1-C206 |
Hugo Mändar matejaliteaduse kaasprofessor, knd (füüsika-matemaatika) E-post: hugo.mandar@ut.ee Telefon: 737 5537 Kabinet: W. Ostwaldi 1-C209 |
Jaan Aarik emeriitprofessor, PhD (rakendusfüüsika) E-post: jaan.aarik@ut.ee Telefon: 737 4674 Kabinet: W. Ostwaldi 1-C309 |
Väino Sammelselg emeriitprofessor, knd (füüsika-matemaatika) E-post: vaino.sammelselg@ut.ee Telefon: 737 4705 |
Aarne Kasikov materjaliteaduse teadur, PhD (rakendusfüüsika) E-post: aarne.kasikov@ut.ee Telefon: 737 4654,737 4656 Kabinet: W. Ostwaldi 1-C307 |
Kristjan Kalam materjaliteaduse teadur, PhD (materjaliteadus) E-post: kristjan.kalam@ut.ee Telefon: 737 5877 Kabinet: W. Ostwaldi 1-C207 |
Taivo Jõgiaas materjaliteaduse teadur, PhD (materjaliteadus) E-post: taivo.jogiaas@ut.ee Kabinet: W. Ostwaldi 1-C207 |
Jekaterina Kozlova elektronmikroskoopia teadur, PhD (materjaliteadus) E-post: jekaterina.kozlova@ut.ee Telefon: 737 4672 Kabinet: W. Ostwaldi 1-C211 |
Markus Otsus tehnika ja tehnoloogia nooremteadur, MSc (materjaliteadus) E-post: markus.otsus@ut.ee Kabinet: W. Ostwaldi 1-C207 |
Mahtab Salari Mehr materjaliteaduse nooremteadur, MSc (materjaliteadus) E-post: mahtab.salari.mehr@ut.ee |
Toomas Daniel Viskus materjaliteaduse nooremteadur, MSc (materjaliteadus ja tehnoloogia) E-post: toomas.daniel.viskus@ut.ee W. Ostwaldi 1 |
Oliver Vanker materjaliteaduse nooremteadur, MSc (materjaliteadus ja tehnoloogia) E-post: oliver.vanker@ut.ee Kabinet: W. Ostwaldi 1 |
Joonas Merisalu materjaliteaduse spetsialist, PhD (füüsikaline infotehnoloogia) E-post: joonas.merisalu@ut.ee Kabinet: W. Ostwaldi 1-C207 |
Lauri Aarik insener, PhD (materjaliteadus) E-post: lauri.aarik@ut.ee Telefon: 737 4673, 737 4675 Kabinet: W. Ostwaldi 1-C310 |
Raul Rammula insener, PhD (rakendusfüüsika) E-post: raul.rammula@ut.ee Telefon: 737 4673 W. Ostwaldi 1 |
Aivar Tarre insener, MSc (rakendusfüüsika) E-post: aivar.tarre@ut.ee Telefon: 737 4614 Kabinet: W. Ostwaldi 1-C308 |
Tauno Kahro materjaliteaduse spetsialist, MSc (materjaliteadus) E-post: tauno.kahro@ut.ee Telefon: 737 4708 |
Alma-Asta Kiisler insener E-post: alma-asta.kiisler@ut.ee Telefon: 737 4665 Kabinet: W. Ostwaldi 1-C311 |
Peeter Ritslaid insener E-post: peeter.ritslaid@ut.ee Telefon: 737 4654 Kabinet: W. Ostwaldi 1-C208 |
Ivan Netšipailo insener, MSc (füüsikaline materjalitehnoloogia) E-post: ivan.netchipailo@ut.ee |
Maido Merisalu insener, Phd (materjaliteadus) E-post: maido.merisalu@ut.ee Telefon: 737 4660 Kabinet: W. Ostwaldi 1-C215 |
Jaan Erik Krull laborant E-post: jaan.erik.krull@ut.ee Kabinet: W. Ostwaldi 1-C211 |
Agnes Rohtsalu laborant E-post: agnes.rohtsalu@ut.ee Kabinet: W. Ostwaldi 1-C211 |
Markus Kõiv laborant E-post: markus.koiv@ut.ee Kabinet: W. Ostwaldi 1-C207 |
Laura Kelk laborant E-post: laura.kelk@ut.ee Kabinet: W. Ostwaldi 1-C211 |
Anna Maria Tuberg laborant E-post: anna.maria.tuberg@ut.ee Kabinet: W. Ostwaldi 1-C211 |
Uku Andreas Reigo laborant E-post: uku.andreas.reigo@ut.ee Kabinet: W. Ostwaldi 1-C211 |
Aile Tamm materjaliteaduse kaasprofessor, PhD (tahkisefüüsika) E-post: aile.tamm@ut.ee Telefon: 737 4662 Kabinet: W. Ostwaldi 1-C211 |
uus! Taaskasutatud materjalidest sünteesitud karbiidid ja nende kasutamine töötlevas ning kõrgtehnoloogilises tööstuses (TEM-TA31).
2024-2028, Teadus- ja arendusprojekt
TÜ poolne vastutav täitja kaasprof. Harry Alles
Takistuslülitusnähtused andmetöötluseks loodud tehismaterjalides (PRG753).
2020-2024, Personaalse uurimistoetuse rühmagrant
TÜ poolne vastutav täitja prof. Kaupo Kukli
Optiliste materjalide suure tiheduse ja kõvadusega faaside teke ja stabiliseerimine (PSG448).
2020-2023, Personaalse uurimistoetuse stardigrant
TÜ poolne vastutav täitja dr. Lauri Aarik
Berholts, A.; Kodu, M.; Rubin. P.; Kahro, T.; Alles, H.; Jaaniso, R. ACS Applied Materials & Interfaces 16 (33) (2024), 43827−43837; doi: https://doi.org/10.1021/acsami.4c08151
Enhanced design of multiplexed coded masks for Fresnel incoherent correlation holography.
Gopinath, S.; Bleahu, A.; Kahro, T.; Rajeswary, A. S. J. F.; Kumar, R.; Kukli, K.; Tamm, A.; Rosen, J.; Anand, V. Scientific Reports 13 (2023) 7390; https://doi.org/10.1038/s41598-023-34492-2
Aarik, L.; Arroval, T.; Ritslaid, P.; Vask, A.; Mändar, H.; Aarik, J. Crystal Growth & Design 23 (1) (2023) 548−557; https://doi.org/10.1021/acs.cgd.2c01174
Influence of Annealing on Mechanical Behavior of Alumina-Tantala Nanolaminates.
Piirsoo, H.-M.; Jõgiaas, T.; Kukli, K.; Tamm, A. Materials 16 (8) (2023) 3027; doi: https://doi.org/10.3390/ma16083207
Kahro, T.; Raudonen, K.; Merisalu, J.; Tarre, A.; Ritslaid, P.; Kasikov, A.;Jõgiaas, T.; Käämbre, T.; Otsus, M.; Kozlova, J.; Alles, H.; Tamm, A.; Kukli, K. Nanomaterials 13 (8) (2023) 1323; doi: https://doi.org/10.3390/nano13081323.
Nanoindentation of Chromium Oxide Possessing Superior Hardness among Atomic-Layer-Deposited Oxides.
Jõgiaas. T.; Tarre, A.; Mändar, H.; Kozlova, J.; Tamm, A. Nanomaterials 12 (1) (2022) 82; doi: https://doi.org/10.3390/nano12010082.
Sokka, A.; Mooste, M.; Käärik, M.; Gudkova, V.; Kozlova, J.; Kikas, A.; Kisand, V.; Treshchalov, A.; Tamm, A.; Paiste, P.; Aruväli, J.; Leis, J.; Krumme, A.; Holdcroft, S.; Cavaliere, S.; Jaouen, F.; Tammeveski, K. International Journal of Hydrogen Energy 46 (61) (2021) 31275-31287; doi: https://doi.org/10.1016/j.ijhydene.2021.07.025.
Study of RTN signals in resistive switching devices based on neural networks.
González-Cordero, G.; González, M. B.; Zabala, M.; Kalam, K.; Tamm, A.; Jiménez-Molinos, F.; Campabadal, F.; Roldán, J. B. Solid-State Electronics (2021) 108034; doi: https://doi.org/10.1016/j.sse.2021.108034.
Lilloja, J.; Mooste, M.; Kibena-Põldsepp, E.; Sarapuu, A.; Zulevi, B.; Kikas, A.; Piirsoo, H.-M.; Tamm, A.; Kisand, V.; Holdcroft, S.; Serov, A.; Tammeveski, K. Journal of Power Sources Advances 8 (2021) 100052; doi: https://doi.org/10.1016/j.powera.2021.100052.
Microstructure and mechanical properties of atomic layer deposited alumina doped zirconia.
Piirsoo, H.-M.; Jõgiaas, T.; Mändar, H.; Ritslaid, P.; Kukli, K.; Tamm, A. AIP Advances 11 (5) (2021) 055316; doi: 10.1063/5.0047572.
Atomic layer deposition of superparamagnetic ruthenium-doped iron oxide thin film.
Tamm, A.; Tarre, A.; Kozlova, J.; Rähn, M.; Jõgiaas, T.; Kahro, T.; Link, J.; Stern, R. RSC Advances 11 (13) (2021) 7521−7526; doi:10.1039/D1RA00507C.
Kalam, K.; Rammula, R.; Ritslaid, P.; Käämbre, T.; Link, J.; Stern, R.; Vinuesa, G.; Duenas, S.; Castán, H.; Tamm, A.; Kukli, K. Nanotechnology 32 (2021) 335703; doi: 10.1088/1361-6528/abfee9.
Hafnium Oxide/Graphene/Hafnium Oxide-Stacked Nanostructures as Resistive Switching Media.
Kahro, T.; Tarre, A.; Käämbre, T.; Piirsoo, H.-M.; Kozlova, J.; Ritslaid, P.; Kasikov, A.; Jõgiaas, T.; Vinuesa, G.; Dueñas, S.; Castán, H.; Tamm, A.; Kukli, K. ACS Applied Nano Materials 4 (5) (2021) 5152−5163; doi: 10.1021/acsanm.1c00587.
Merisalu, M.; Aarik, L.; Kozlova, J.; Mändar, H.; Tarre, A.; Sammelselg, V. Surface and Coatings Technology 411 (2021) 126993; doi: 10.1016/j.surfcoat.2021.126993.
Image
| Aatomkihtsadestamise seade; Picosun R200 Tootja: Picosun, Finland Tööstuslik plasmaergastusega aatomkihtsadestamise reaktor. Lähteainete ja protsesside valik piiratud (seotud seadme spetsiifikaga) ja põhiliselt sadestatakse metalloksiide näiteks HfO2, Al2O3 või TiO2 |
Image
| Keemilise aurufaassadestamise seade Tootja: isetehtud Eriotstarbelised alarõhulised kvartsist reaktoriga seadmed üliõhukeste kilede sünteesiks |
Image
| Metall- ja mittemetallkilede sadestamine Õhukeste kihtide sadestamise seadmed (elektronkiir, termiline, magnetron) |
Image
| SmartLab difraktomeeter Tootja: Rigaku, Japan Multifunktsionaalne materjalide struktuuri uurimise röntgendifraktomeeter. Olemasolevad analüüsimeetodid: XRD, GIXRD,IP-XRD, HR-XRD, UHR-XRD, XRR, SAXS, GI-SAXS, HT-XRD |
Image
| Röntgenfluoresents spektromeeter ZSX-400 Tootja: Rigaku, Japan Õhukeste kihtstruktuuride elementanalüüs |
Image
| Sondijaamal Cascade Microtech MPS150 baseeruv mõõtekompleks Tootja: Beaverton, OR, USA Lisades sondijaamale lisamõõteseadmeid vastavalt soovile (näiteks voolu, pinge, mahtuvuse jne aparaadid) saab planaarsete objektide elektrilisi omadusi uurida. |
Image
| Spektroskoopiline ellipsomeeter GES-5E Tootja: Semilab, Sopra Tasapinnaliste kihtstruktuuride paksuse ja murdumisnäitaja hindamiseks |