Kiletehnoloogia labor
Kiletehnoloogia labor tegeleb õhukeste ja üliõhukeste materjalikihtide (tahkisekilede) valmistamiseks ja uurimiseks sobivate meetodite väljatöötamise ja täiustamisega, nende meetodite rakendamisega ning üliõpilaste koolitamisega selles valdkonnas. Uuritavate materjalide kasutusalad ulatuvad korrosioonivastastest pinnakatetest mikro- ja nanoelektroonikani.
Labori töötajate käsutuses on aparatuur tahkiskilede valmistamiseks elektronkiirega aurustamise, magnetrontolmustamise ja aatomkihtsadestamise meetodil, samuti grafeeni valmistamiseks keemilise aurufaassadestamisega. Kasutada on vahendid tahkisekilede moodustumise jälgimiseks reaalajas. Materjalide omadusi on laboris võimalik uurida röntgendifraktsiooni, röntgenpeegelduse, röntgenfluorestsentsi, elektronmikroskoopia, elektronsond-mikroanalüüsi, spektroskoopilise ellipsomeetria ja teravikmikroskoopia meetoditel. Samuti on kasutada elektriliste omaduste ja gaasitundlikkuse mõõtmise aparatuur.
Kiletehnoloogia laboris on
- töötatud välja uudsed meetodid aatomkihtsadestamise protsesside reaalajaliseks jälgimiseks,
- arendatud edasi tehnoloogiaid efektiivsete korrosioonivastaste pinnakatete valmistamiseks,
- võetud kasutusele uudsed meetodid suure dielektrilise läbitavusega dielektrikukilede valmistamiseks nanoelektroonika seadmete jaoks,
- juurutatud keemilise aurufaassadestamise meetod grafeeni valmistamiseks.
| Kaupo Kukli laborijuhataja materjaliteaduse professor, PhD (rakendusfüüsika) E-post: kaupo.kukli@ut.ee Telefon: 737 4673 Kabinet: W. Ostwaldi 1-C206 |
| Harry Alles materjaliteaduse kaasprofessor, PhD E-post: harry.alles@ut.ee Telefon: 737 4658 Kabinet: W. Ostwaldi 1-C206 |
| Hugo Mändar matejaliteaduse kaasprofessor, knd (füüsika-matemaatika) E-post: hugo.mandar@ut.ee Telefon: 737 5537 Kabinet: W. Ostwaldi 1-C209 |
| Jaan Aarik emeriitprofessor, PhD (rakendusfüüsika) E-post: jaan.aarik@ut.ee Telefon: 737 4674 Kabinet: W. Ostwaldi 1-C309 |
| Väino Sammelselg emeriitprofessor, knd (füüsika-matemaatika) E-post: vaino.sammelselg@ut.ee Telefon: 737 4705 |
| Aarne Kasikov materjaliteaduse teadur, PhD (rakendusfüüsika) E-post: aarne.kasikov@ut.ee Telefon: 737 4654,737 4656 Kabinet: W. Ostwaldi 1-C307 |
| Kristjan Kalam materjaliteaduse teadur, PhD (materjaliteadus) E-post: kristjan.kalam@ut.ee Telefon: 737 5877 Kabinet: W. Ostwaldi 1-C207 |
| Taivo Jõgiaas materjaliteaduse teadur, PhD (materjaliteadus) E-post: taivo.jogiaas@ut.ee Kabinet: W. Ostwaldi 1-C207 |
| Jekaterina Kozlova elektronmikroskoopia teadur, PhD (materjaliteadus) E-post: jekaterina.kozlova@ut.ee Telefon: 737 4672 Kabinet: W. Ostwaldi 1-C211 |
| Markus Otsus tehnika ja tehnoloogia nooremteadur, MSc (materjaliteadus) E-post: markus.otsus@ut.ee Kabinet: W. Ostwaldi 1-C207 |
| Mahtab Salari Mehr materjaliteaduse nooremteadur, MSc (materjaliteadus) E-post: mahtab.salari.mehr@ut.ee |
| Toomas Daniel Viskus materjaliteaduse nooremteadur, MSc (materjaliteadus ja tehnoloogia) E-post: toomas.daniel.viskus@ut.ee W. Ostwaldi 1 |
| Oliver Vanker materjaliteaduse nooremteadur, MSc (materjaliteadus ja tehnoloogia) E-post: oliver.vanker@ut.ee Kabinet: W. Ostwaldi 1 |
| Joonas Merisalu materjaliteaduse spetsialist, PhD (füüsikaline infotehnoloogia) E-post: joonas.merisalu@ut.ee Kabinet: W. Ostwaldi 1-C207 |
| Lauri Aarik insener, PhD (materjaliteadus) E-post: lauri.aarik@ut.ee Telefon: 737 4673, 737 4675 Kabinet: W. Ostwaldi 1-C310 |
| Raul Rammula insener, PhD (rakendusfüüsika) E-post: raul.rammula@ut.ee Telefon: 737 4673 W. Ostwaldi 1 |
| Aivar Tarre insener, MSc (rakendusfüüsika) E-post: aivar.tarre@ut.ee Telefon: 737 4614 Kabinet: W. Ostwaldi 1-C308 |
| Tauno Kahro materjaliteaduse spetsialist, MSc (materjaliteadus) E-post: tauno.kahro@ut.ee Telefon: 737 4708 |
| Alma-Asta Kiisler insener E-post: alma-asta.kiisler@ut.ee Telefon: 737 4665 Kabinet: W. Ostwaldi 1-C311 |
| Peeter Ritslaid insener E-post: peeter.ritslaid@ut.ee Telefon: 737 4654 Kabinet: W. Ostwaldi 1-C208 |
| Helle-Mai Piirsoo materjaliteaduse spetsialist, PhD (Materjaliteadus) E-post: helle-mai.piirsoo@ut.ee Telefon: 737 4659 Kabinet: W. Ostwaldi 1-C207 |
| Ivan Netšipailo insener, MSc (füüsikaline materjalitehnoloogia) E-post: ivan.netchipailo@ut.ee |
| Maido Merisalu insener, Phd (materjaliteadus) E-post: maido.merisalu@ut.ee Telefon: 737 4660 Kabinet: W. Ostwaldi 1-C215 |
| Jaan Erik Krull laborant E-post: jaan.erik.krull@ut.ee Kabinet: W. Ostwaldi 1-C211 |
| Agnes Rohtsalu laborant E-post: agnes.rohtsalu@ut.ee Kabinet: W. Ostwaldi 1-C211 |
| Markus Kõiv laborant E-post: markus.koiv@ut.ee Kabinet: W. Ostwaldi 1-C207 |
| Laura Kelk laborant E-post: laura.kelk@ut.ee Kabinet: W. Ostwaldi 1-C211 |
| Anna Maria Tuberg laborant E-post: anna.maria.tuberg@ut.ee Kabinet: W. Ostwaldi 1-C211 |
| Uku Andreas Reigo laborant E-post: uku.andreas.reigo@ut.ee Kabinet: W. Ostwaldi 1-C211 |
| Aile Tamm materjaliteaduse kaasprofessor, PhD (tahkisefüüsika) E-post: aile.tamm@ut.ee Telefon: 737 4662 Kabinet: W. Ostwaldi 1-C211 |
uus! Laia keelutsooniga kontrollitava faasikoostisega oksiidpooljuhtide heterosiirded (PRG2594).
2025-2029 Teadus- ja arendusasutused
TÜ poolne vastutav täitja prof. Kaupo Kukliuus! Taaskasutatud materjalidest sünteesitud karbiidid ja nende kasutamine töötlevas ning kõrgtehnoloogilises tööstuses (TEM-TA31).
2024-2028, Teadus- ja arendusprojekt
TÜ poolne vastutav täitja kaasprof. Harry AllesTakistuslülitusnähtused andmetöötluseks loodud tehismaterjalides (PRG753).
2020-2024, Personaalse uurimistoetuse rühmagrant
TÜ poolne vastutav täitja prof. Kaupo KukliOptiliste materjalide suure tiheduse ja kõvadusega faaside teke ja stabiliseerimine (PSG448).
2020-2023, Personaalse uurimistoetuse stardigrant
TÜ poolne vastutav täitja dr. Lauri Aarik- Tugevalt frustreeritud kvantmagnetite adapteeruvad olekud (ENIQMA)
2018-2022, Personaalne uurimistoetuse rühmagrant PRG4, Sihtasutus Eesti Teadusagentuur
TÜ poolne vastutav täitja dr. Aile Tamm - Kontrollitud korrastatus kvant- ja nanomaterjalides (TK134)
2016-2023, Tippkeskused, SA Archimedes
TÜ poolne vastutav täitja dr. Aile Tamm
Valik labori töötajate kaasautorlusel ilmunud artiklitest
Graphene/TiO2 Heterostructure Integrated with a Micro-Lightplate for Low-Power NO2 Gas Detection.
Vafaei, P.; Kodu, M.; Alles, H.; Kiisk, V.; Casals, O.; Prades, J. D.; Jaaniso, R. Sensors 25 (2) (2025), 382; doi: https://doi.org/10.3390/s25020382
Berholts, A.; Kodu, M.; Rubin. P.; Kahro, T.; Alles, H.; Jaaniso, R. ACS Applied Materials & Interfaces 16 (33) (2024), 43827−43837; doi: https://doi.org/10.1021/acsami.4c08151
Enhanced design of multiplexed coded masks for Fresnel incoherent correlation holography.
Gopinath, S.; Bleahu, A.; Kahro, T.; Rajeswary, A. S. J. F.; Kumar, R.; Kukli, K.; Tamm, A.; Rosen, J.; Anand, V. Scientific Reports 13 (2023) 7390; https://doi.org/10.1038/s41598-023-34492-2
Aarik, L.; Arroval, T.; Ritslaid, P.; Vask, A.; Mändar, H.; Aarik, J. Crystal Growth & Design 23 (1) (2023) 548−557; https://doi.org/10.1021/acs.cgd.2c01174
Influence of Annealing on Mechanical Behavior of Alumina-Tantala Nanolaminates.
Piirsoo, H.-M.; Jõgiaas, T.; Kukli, K.; Tamm, A. Materials 16 (8) (2023) 3027; doi: https://doi.org/10.3390/ma16083207
Kahro, T.; Raudonen, K.; Merisalu, J.; Tarre, A.; Ritslaid, P.; Kasikov, A.;Jõgiaas, T.; Käämbre, T.; Otsus, M.; Kozlova, J.; Alles, H.; Tamm, A.; Kukli, K. Nanomaterials 13 (8) (2023) 1323; doi: https://doi.org/10.3390/nano13081323.
Nanoindentation of Chromium Oxide Possessing Superior Hardness among Atomic-Layer-Deposited Oxides.
Jõgiaas. T.; Tarre, A.; Mändar, H.; Kozlova, J.; Tamm, A. Nanomaterials 12 (1) (2022) 82; doi: https://doi.org/10.3390/nano12010082.
Sokka, A.; Mooste, M.; Käärik, M.; Gudkova, V.; Kozlova, J.; Kikas, A.; Kisand, V.; Treshchalov, A.; Tamm, A.; Paiste, P.; Aruväli, J.; Leis, J.; Krumme, A.; Holdcroft, S.; Cavaliere, S.; Jaouen, F.; Tammeveski, K. International Journal of Hydrogen Energy 46 (61) (2021) 31275-31287; doi: https://doi.org/10.1016/j.ijhydene.2021.07.025.
Study of RTN signals in resistive switching devices based on neural networks.
González-Cordero, G.; González, M. B.; Zabala, M.; Kalam, K.; Tamm, A.; Jiménez-Molinos, F.; Campabadal, F.; Roldán, J. B. Solid-State Electronics (2021) 108034; doi: https://doi.org/10.1016/j.sse.2021.108034.
Lilloja, J.; Mooste, M.; Kibena-Põldsepp, E.; Sarapuu, A.; Zulevi, B.; Kikas, A.; Piirsoo, H.-M.; Tamm, A.; Kisand, V.; Holdcroft, S.; Serov, A.; Tammeveski, K. Journal of Power Sources Advances 8 (2021) 100052; doi: https://doi.org/10.1016/j.powera.2021.100052.
Microstructure and mechanical properties of atomic layer deposited alumina doped zirconia.
Piirsoo, H.-M.; Jõgiaas, T.; Mändar, H.; Ritslaid, P.; Kukli, K.; Tamm, A. AIP Advances 11 (5) (2021) 055316; doi: 10.1063/5.0047572.
Atomic layer deposition of superparamagnetic ruthenium-doped iron oxide thin film.
Tamm, A.; Tarre, A.; Kozlova, J.; Rähn, M.; Jõgiaas, T.; Kahro, T.; Link, J.; Stern, R. RSC Advances 11 (13) (2021) 7521−7526; doi:10.1039/D1RA00507C.
Kalam, K.; Rammula, R.; Ritslaid, P.; Käämbre, T.; Link, J.; Stern, R.; Vinuesa, G.; Duenas, S.; Castán, H.; Tamm, A.; Kukli, K. Nanotechnology 32 (2021) 335703; doi: 10.1088/1361-6528/abfee9.
Hafnium Oxide/Graphene/Hafnium Oxide-Stacked Nanostructures as Resistive Switching Media.
Kahro, T.; Tarre, A.; Käämbre, T.; Piirsoo, H.-M.; Kozlova, J.; Ritslaid, P.; Kasikov, A.; Jõgiaas, T.; Vinuesa, G.; Dueñas, S.; Castán, H.; Tamm, A.; Kukli, K. ACS Applied Nano Materials 4 (5) (2021) 5152−5163; doi: 10.1021/acsanm.1c00587.
Merisalu, M.; Aarik, L.; Kozlova, J.; Mändar, H.; Tarre, A.; Sammelselg, V. Surface and Coatings Technology 411 (2021) 126993; doi: 10.1016/j.surfcoat.2021.126993.
|
Image
| Aatomkihtsadestamise seade; Picosun R200 Tootja: Picosun, Finland Tööstuslik plasmaergastusega aatomkihtsadestamise reaktor. Lähteainete ja protsesside valik piiratud (seotud seadme spetsiifikaga) ja põhiliselt sadestatakse metalloksiide näiteks HfO2, Al2O3 või TiO2 |
|
Image
| Aatomkihtsadestamise seade Tootja: isetehtud Laia lähteainete ja protsesside valikuga aatomkihtsadestamise reaktor |
|
Image
| Keemilise aurufaassadestamise seade Tootja: isetehtud Eriotstarbelised alarõhulised kvartsist reaktoriga seadmed üliõhukeste kilede sünteesiks |
|
Image
| Metall- ja mittemetallkilede sadestamine Õhukeste kihtide sadestamise seadmed (elektronkiir, termiline, magnetron) |
|
Image
| Elektronkiiraurustamise seade VS-17 VS-17 on varustatud elektronkahuriga materjalide aurustamiseks vaakumis |
|
Image
| SmartLab difraktomeeter Tootja: Rigaku, Japan Multifunktsionaalne materjalide struktuuri uurimise röntgendifraktomeeter. Olemasolevad analüüsimeetodid: XRD, GIXRD,IP-XRD, HR-XRD, UHR-XRD, XRR, SAXS, GI-SAXS, HT-XRD |
|
Image
| Röntgenfluorestsents spektromeeter ZSX-400 Tootja: Rigaku, Japan Õhukeste kihtstruktuuride elementanalüüs |
|
Image
| Sondijaamal Cascade Microtech MPS150 baseeruv mõõtekompleks Tootja: Beaverton, OR, USA Lisades sondijaamale vastavalt soovile täindavaid mõõteseadmeid (näiteks voolu, pinge, mahtuvuse jne. mõõtmise aparaadid) saab planaarsete objektide elektrilisi omadusi uurida |
|
Image
| Spektroskoopiline ellipsomeeter GES-5E Tootja: Semilab, Sopra Tasapinnaliste kihtstruktuuride paksuse ja murdumisnäitaja hindamiseks |
- Helle-Mai Piirsoo 2024
- Kristel Möls 2024
- Joonas Merisalu 2024
- Maido Merisalu 2022
- Helina Seemen 2021
- Kristjan Kalam 2020
- Jekaterina Kozlova 2019
- Lauri Aarik 2017
- Taivo Jõgiaas 2017
- Jay Mondal 2016
- ERR video. Meie labor on näha alates 18:22
- Virtuaaltuur
