Image
| Raivo Jaaniso labori juhataja materjaliteaduse ja rakendusfüüsika kaasprofessor, knd (füüsika-matemaatika) E-post: raivo.jaaniso@ut.ee Telefon: +372 737 4731 Kabinet: C205 CV, projektid: ETIS Publikatsioonid: Publons, Google Scholar, Scopus Juhendamised: UT DSpace | ||
Image
| Margus Kodu külalisliige, PhD (materjaliteadus) CV, projektid: ETIS Publikatsioonid: Scopus | ||
Image
| Valter Kiisk sensormaterjalide spektroskoopia kaasprofessor, PhD (tahkisefüüsika) E-post: valter.kiisk@ut.ee Telefon: +372 737 4742 Kabinet: D307 CV, projektid: ETIS Publikatsioonid: Publons, Google Scholar, Scopus Juhendamised: UT DSpace | ||
Image
| Taavi Repän
| ||
Koit Mauring kaasprofessor, knd (füüsika-matemaatika) E-post: koit.mauring@ut.ee Telefon: +372 737 4737 Kabinet: D320 CV, projektid: ETIS Publikatsioonid: Scopus Juhendamised: UT DSpace | |||
Indrek Renge kaasprofessor, knd (keemia) E-post: indrek.renge@ut.ee Kabinet: C203 CV, projektid: ETIS Publikatsioonid: Scopus | |||
Image
| Tea Avarmaa teadur, knd (keemia) E-post: tea.avarmaa@ut.ee Telefon: +372 737 4711, +372 737 4790 Kabinet: C204, D315 CV, projektid: ETIS Publikatsioonid: Scopus | ||
Image
| Artjom Berholts sensoorika spetsialist, PhD (materjaliteadus) E-post: artjom.berholts@ut.ee Telefon: +372 737 4711 Kabinet: C204 CV, projektid: ETIS Publikatsioonid: Scopus | ||
Image
| Martin Lind doktorant, MSc (füüsika) E-post: martin.lind@ut.ee Kabinet: C203 CV, projektid: ETIS | ||
Image
| Paniz Vafaei füüsika nooremteadur, doktorant, MSc (tehnika) E-post: paniz.vafaei@ut.ee Kabinet: C202 CV, projektid: ETIS Publikatsioonid: Scopus | ||
Image
| Ahmet Burak Baloglu materjaliteaduse nooremteadur, doktorant, MSc (materjaliteadus) E-post: ahmet.burak.baloglu@ut.ee Kabinet: C202 CV, projektid: ETIS | ||
Anna Soosaar magistrant E-post: anna.soosaar@ut.ee Kabinet: D311 |
Uurimisprojektid ja võrgustikud
Valik uuemaid teadustöid
Hiljutised kutsutud ja suulised ettekanded
Aparatuur
Setup for electrical and optical gas sensor characterization. The computer-controlled measurement complex includes gas mixing stations (based on Brooks mass flow controllers), Keithley sourcemeters for electrical measurements and an optical spectrometer for optical measurements. Available special gases include O3, NO2, CO, CO2, NH3, H2S, SO2, acetone and ethanol (ppb-to-ppm range), which can be tested in the background of Ar, N2, O2, or their arbitrary mixtures with the relative humidity between 0 and 90%. The majority of test gases are 5N purity and fed from cylinders or permeation tubes; ozone is generated before mixing.
Setup for pulsed laser deposition of thin films includes two UHV deposition chambers, UV excimer laser (Coherent COMPexPro 205,
wavelength 248 nm), and equipment for in-situ process monitoring (Woollam M2000x spectroscopic ellipsometer, Andor Echelle spectrograph for plasma spectroscopy).